產(chǎn)品特點(diǎn)

• 橢圓偏振術(shù)量測(cè)紫外光到可見(jiàn)光波長(zhǎng)橢圓參數(shù)。
• 0.1nm以上奈米級(jí)光學(xué)薄膜厚度量測(cè)。
• 400波長(zhǎng)以上多通道分光的橢偏儀，高速量測(cè)橢圓偏光光譜。
• 可自由變換反射量測(cè)角度，得到更詳細(xì)的薄膜解析數(shù)據(jù)。
• 非線(xiàn)性*小平方法解析多層膜、光學(xué)常數(shù)。

產(chǎn)品規(guī)格

應(yīng)用范圍

應(yīng)用范圍

■半導(dǎo)體晶圓
?電晶體閘極(Gate)氧化薄膜、氮化膜，電極材料等
?SiO 2、SixOy、SiN、SiON、SiNx、Al 2 O 2、SiNxOy、poly-Si、ZnSe、BPSG、TiN
?光阻劑光學(xué)常數(shù)(波長(zhǎng)色散)
■化合物半導(dǎo)體
?AlxGa (1-x) As多層膜、非結(jié)晶矽
■平面顯示器
?配向膜
?電漿顯示器用ITO、MgO等
■新材料
?類(lèi)鉆碳薄膜(DLC膜)、超傳導(dǎo)性薄膜、磁頭薄膜
■光學(xué)薄膜
?TiO 2、SiO 2、多層膜、抗反射膜、反射膜
■平版印刷領(lǐng)域
?g線(xiàn)(436nm)、h線(xiàn)(405nm)、i線(xiàn)(365nm)、KrF(248nm)等于各波長(zhǎng)的n、k值評(píng)價(jià)

應(yīng)用范例

非線(xiàn)性*小平方法比對(duì)NIST標(biāo)準(zhǔn)樣品(SiO 2)膜厚精度確認(rèn)

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